 |
業界別で探す |
|
■ 基板とマスクの相対的な位置ずれ計測 |
|
使用製品名 ： SVS |
|
基板の両端の穴とその上下のマスクのアライメントマークの相対的な位置ずれ量を独自のパターンマッチングアルゴリズムで高速かつ高精度に検出します。 |
|
|
|
|
| ・ |
パターンマッチング（POCアルゴリズム）
□10mm視野での繰り返し精度：±0.005mm |
| ・ |
処理時間
80msec.（カメラ取込時間含む：シャッタースピード1/100sec.)
|
|
|
|
|
・ |
登録マークはホストからのコマンドにより自動的に生成されるため、登録作業が不要になり、印刷精度や登録時の位置ずれによる悪影響が発生しません。
|
|
・ |
上下マスクの計測領域はマークサイズに合わせて自動的に設定されます。
|
|
・ |
基板穴の位置ずれにあわせて上下マスクの計測領域が自動的に位置補正されるため、基板プリアライメントの負荷が低減します。
|
|
|
|
