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半導体・FPD業界：半導体　後工程

■ ダイボンダ（共晶）での窒素流量制御

使用製品名 ： MPC

プレヒートゾーンに供給する窒素（窒素＋水素）流量制御
品種ごとの流量設定値の一括管理・変更が可能

MPC

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